原标题：税收优惠政策支持先进制程 光刻胶国产化空间大（附股）

财政部等四部门发布《关于促进集成电路产业和软件产业高质量发展企业所得税政策的公告》。国家鼓励的集成电路线宽小于28纳米(含),且经营期在15年以上的集成电路生产企业或项目,第一年至第十年免征企业所得税。若线宽小于65纳米(含),所得税优惠年限为“五免五减半”。

华创证券指出,从中可以看出,税收优惠政策向先进制程倾斜。光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料,决定了半导体图形工艺的精密程度和良率。由于技术壁垒和客户壁垒高,光刻胶市场被美日公司长期垄断。受益于本土半导体产能持续扩大和集成电路大基金的支持,国产光刻胶正在迎来前所未有的发展机遇。

南大光电最新公告,自主研发的ArF光刻胶产品近日成功通过客户使用认证,成为第一只通过产品验证的国产ArF光刻胶。

晶瑞股份的i线光刻胶已供应国内头部芯片公司,高端KrF(248)光刻胶处于中试阶段。

雅克科技在高解析度光刻胶、透明光刻胶、CMOS光刻胶等方面正与下游特定客户进行联合研发。

其他公司：上海新阳、容大感光。